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耗盡層和空間電荷區(qū),耗盡層近似詳解-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2024-08-02 

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耗盡層和空間電荷區(qū),耗盡層近似詳解-KIA MOS管


耗盡層

耗盡層,是指PN結(jié)中在漂移運動和擴散作用的雙重影響下載流子數(shù)量非常少的一個高電阻區(qū)域。耗盡層的寬度與材料本身性質(zhì)、溫度以及偏置電壓的大小有關(guān)。

耗盡層,空間電荷區(qū)

耗盡層(depletion region),又稱耗盡區(qū)、阻擋層、勢壘區(qū)(barrier region),是指PN結(jié)中在漂移運動和擴散作用的雙重影響下載流子數(shù)量非常少的一個高電阻區(qū)域。耗盡層的寬度與材料本身性質(zhì)、溫度以及偏置電壓的大小有關(guān)。


耗盡區(qū)的命名,因為它是由導電區(qū)域通過除去所有自由電荷載體而形成的,而不留下任何電流。了解耗盡區(qū)是解釋現(xiàn)代半導體電子器件的關(guān)鍵,二極管,雙極結(jié)型晶體管,場效應晶體管和可變電容二極管都依賴于耗盡區(qū)現(xiàn)象。


空間電荷區(qū)

空間電荷區(qū)也稱耗盡層,在PN結(jié)中,由于自由電子的擴散運動和內(nèi)電場導致的漂移運動,使PN結(jié)中間的部位(P區(qū)和N區(qū)交界面)產(chǎn)生一個很薄的電荷區(qū),這個表面電荷層是由于載流子被電場排斥到體內(nèi)而顯露出未被補償?shù)碾x化雜質(zhì)電荷所構(gòu)成的。由于離化雜質(zhì)電荷是固定不動的空間電荷,故所形成的表面電荷層為空間電荷區(qū)。

耗盡層,空間電荷區(qū)

空間電荷區(qū)中存在電場和電勢變化.。電勢變化取決于半導體中雜質(zhì)的分布情況,空間電荷區(qū)的寬度則取決于半導體的雜質(zhì)濃度。摻雜濃度愈高,對應的空間電荷區(qū)寬度就愈窄。另外,空間電荷區(qū)的寬度還受外加電壓控制,當外加電壓方向增強空間電荷區(qū)電場時,空間電荷區(qū)展寬,反之,外加電壓削弱空間電荷區(qū)電場時,空間電荷區(qū)變窄。利用空間電荷區(qū)寬度隨外加電壓變化的特點, 可制作各種半導體器件。

耗盡層,空間電荷區(qū)

特性

(1)當P型半導體和N型半導體結(jié)合在一起時,由于交界面處存在 載流子濃度的差異 ,這樣電子和空穴都要 從濃度高的地方向濃度低的地方擴散 。但是,電子和空穴都是帶電的,它們擴散的結(jié)果就使P區(qū)和N區(qū)中原來的電中性條件破壞了。P區(qū)一側(cè)因失去空穴而留下不能移動的負離子,N區(qū)一側(cè)因失去電子而留下不能移動的正離子。這些不能移動的帶電粒子通常稱為空間電荷 ,它們集中在P區(qū)和N區(qū)交界面附近,形成了一個很薄的空間電荷區(qū),這就是我們所說的PN結(jié) 。


(2)在這個區(qū)域內(nèi),多數(shù)載流子已擴散到對方并復合掉了,或者說消耗殆盡了,因此,空間電荷區(qū)又稱為 耗盡層 。


(3)P區(qū)一側(cè)呈現(xiàn)負電荷,N區(qū)一側(cè)呈現(xiàn)正電荷,因此空間電荷區(qū)出現(xiàn)了方向由N區(qū)指向P區(qū)的電場,由于這個電場是載流子擴散運動形成的,而不是外加電壓形成的,故稱為 內(nèi)電場 。


(4)內(nèi)電場是由多子的擴散運動引起的,伴隨著它的建立將帶來兩種影響:一是 內(nèi)電場將阻礙多子的擴散 ,二是P區(qū)和N區(qū)的少子一旦靠近PN結(jié),便在內(nèi)電場的作用下漂移到對方, 使空間電荷區(qū)變窄 。


(5)因此, 擴散運動使空間電荷區(qū)加寬,內(nèi)電場增強,有利于少子的漂移而不利于多子的擴散;而漂移運動使空間電荷區(qū)變窄,內(nèi)電場減弱,有利于多子的擴散而不利于少子的漂移。當擴散運動和漂移運動達到動態(tài)平衡時,交界面形成穩(wěn)定的空間電荷區(qū),即 PN結(jié)處于動態(tài)平衡。


什么是耗盡層近似?

耗盡層近似:半導體勢壘區(qū)中,載流子濃度遠低于兩側(cè)多子濃度且雜質(zhì)全部電離,故空間電荷幾乎完全由電離的施主和受主雜質(zhì)的電荷形成。為簡化計算,假設整個勢壘區(qū)的載流子耗盡,稱為耗盡層近似。


耗盡層近似是半導體物理中的一個概念,主要用于簡化計算。 在這個近似中,假設半導體勢壘區(qū)中的載流子濃度遠低于兩側(cè)多子的濃度,且雜質(zhì)全部電離。因此,空間電荷幾乎完全由電離的施主和受主雜質(zhì)的電荷形成。這種近似允許研究者假設整個勢壘區(qū)的載流子被耗盡,從而簡化了對半導體器件行為的分析和計算過程。


具體來說,耗盡層近似適用于那些載流子濃度非常低,以至于可以忽略不計的區(qū)域。在PN結(jié)或其他半導體結(jié)構(gòu)中,當偏置條件使得勢壘區(qū)內(nèi)的載流子幾乎完全耗盡時,就可以應用這個近似。


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